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SOKUDO joins forces with CEA-Leti for e-beam lithography development SOKUDO加入电子束光刻技术发展的力量与CEA - Leti

SOKUDO和CEA - Leti已经宣布,这家日本公司将携手开发IC制造无掩膜光刻畅想研究方案。

这个为期三年的项目由想象的CEA - Leti,这是法国领先的半导体研究机构。 它是衡量一个无掩膜光刻技术基础设施和映射器高通量光刻工具的使用。

多重电子束光刻方案涉及到技术的全球做法,包括工具评估,模式以及流程集成,数据处理,原型制作与成本分析。

据SOKUDO,电子束技术有可能是许多次在22纳米光刻逻辑/晶圆代工半导体制造工艺可行的技术层次。
 


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